脉冲激光沉积系统 Pulsed laser deposition 是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar， 同时高真空环境对系统配置的 RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要。

氦质谱检漏仪以其高精度和稳定性在PLD系统检漏中发挥着重要作用。它利用氦气作为示踪气体，能够精确地定位并定量泄漏点。在PLD系统检漏过程中，氦质谱检漏仪能够快速检测出腔室是否存在泄露以及内部材料是否放气，从而确保系统的高真空环境得以维持。

高真空环境不仅影响着PLD系统的正常运行，更直接关系到制备出的薄膜质量和性能。一旦系统存在泄漏，将会导致有效物资的浪费，甚至可能引发安全事故。因此，氦质谱检漏仪的应用，为PLD系统的安全运行提供了有力保障。

下面对于脉冲激光沉积系统PLD检漏方法如下：

1.启动 A100，进入待机界面，启动时间≤ 2min；

2. 设定真空模式检漏，并设定报警值，将设备通过波纹软管连接检漏仪A100，确认连接完毕；

3.按下开始键，检漏仪对设备内部抽真空，到达一定压力检漏仪开始工作，同时在设备怀疑有漏的地方喷氦气 (腔体，焊缝，连接处)。若有漏，检漏仪发出声光报警，并且显示实时漏率；

4. 检测完毕，按下检漏仪停止键，移除连接管路。

此外，氦质谱检漏仪还具有操作简便、检测速度快等优点，使得PLD系统的检漏工作变得更加高效和便捷。同时，随着技术的不断进步，氦质谱检漏仪的性能也在不断提升，为PLD系统的检漏工作提供了更加可靠的技术支持。

氦质谱检漏仪A100与传统泡沫检漏和压差检漏对比，在提供无损检漏的同时可以检测出更小的漏率5E-13 Pa m3/s，利用氦气作为示踪气体可精确定位，定量漏点。

安徽歌博科技有限公司是一家专注于氦气检漏技术的研发、生产及销售的专业厂家，目前不断创新优化，打磨工艺的全过程严格按照国内标准，现已模块化制造、前瞻性工艺，低维护的设备，不断使得客户得到最优质的服务和最好的设备体验。