微波等离子体化学气相沉积法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前国际上被用于高品质金刚石膜制备的首选方法。

MPCVD 装置是将微波发生器产生的微波经波导传输系统进入反应器，并通入甲烷与氢气的混合气体，在微波的激发下，在反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，产生等离子体，在基板台上沉积得到金刚石膜。

通常在使用 MPCVD 设备进行金刚石合成的过程中，如果设备有泄漏的情况，将会使合成的金刚石中掺有杂质，影响金刚石的品质，一般漏率要求1E-10 Pa m3/s(1E-9 mbar l/s)。需要快速的对设备进行定量定位的泄漏检测，传统检漏方式无法满足。

为了解决这一问题，安徽歌博科技推荐客户采购A100氦质谱检漏仪，利用真空法对MPCVD进行检漏，漏率设置为1E-10 Pa m3/s( 1E-9 mbar l/s)。其操作步骤如下：

1.将设备通过波纹软管连接检漏仪A100，确认连接完毕；

2. 启动 A100，进入待机界面，启动时间≤ 2min；

2.按下开始键，先通过阀门启动真空泵D16C抽真空，到达一定压力检漏仪开始工作，同时在设备怀疑有漏的地方喷氦气 (腔体，焊缝，连接处)。若有漏，检漏仪报警，并且显示实时漏率；

4. 检测完毕，按下检漏仪停止键，移除连接管路。

氦质谱检漏仪A100与传统泡沫检漏和压差检漏对比，在提供无损检漏的同时可以检测出更小的漏率5E-13 Pa m3/s，利用氦气作为示踪气体可精确定位，定量漏点。

安徽歌博科技有限公司是一家专注于氦气检漏技术的研发、生产及销售的专业厂家，目前不断创新优化，打磨工艺的全过程严格按照国内标准，现已模块化制造、前瞻性工艺，低维护的设备，不断使得客户得到最优质的服务和最好的设备体验。