璃改性工艺用真空镀膜主要指一类需要在高真空状态下进行的玻璃镀膜。真空镀膜设备是镀膜玻璃生产线中关键设备，镀膜段高本底真空和腔体的低漏率是生产优质镀膜玻璃的前提和保证。因此，所加工的真空镀膜腔体不仅要求快速地抽空，而且要求漏率＜1×10-7mbar./s。

传统的检漏方式存在本底真空度低和高污染的问题，并且对更为小的漏孔难以检漏。因此我们提出了利用氦质谱检漏仪对真空镀膜腔体进行检漏操作。该方案具有灵敏度高和能够精确定位漏孔等优点。

真空系统的漏气是绝对的，不漏气是相对的。真空镀膜腔体在泵抽系统的作用下不断向外排气，用以维持本底的高真空。由于真空镀膜腔体一直处于抽空状态，外部示漏气体氦气通过镀膜腔体真空系统进入检漏仪。氦质谱检漏仪通过检漏口阀门连接到真空泵抽系统中。

系统检查完成后，开启柜外电源，关闭柜内断路器；开启循环冷却水系统；开启旋片泵和罗茨泵，达到真空度后开启分子泵；启动检漏仪，达到开启状态后对可疑漏点进行喷氦，检漏完成后依次关闭系统。

真空镀膜装备在加工制造和安装调试过程中都有可能形成漏孔。主要有以下原因：焊接缺陷，冷加工缺陷，密封面粗糙，密封圈受损。针对漏孔形成的原因，应当在生产和安装调试过程中加以注意。