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设备或产品的密封性能合格与不合格是相对允许漏率而言的。不同设备要求的功能不一样,对气密性的要求就不一样,因此其允许漏率也是不一样的。这个允许漏率一般是由设计
人员根据设备对气密性的要求经过周密的考虑和计算而提出来的。允许漏率不仅是有气密性要求的设备的一项主要设计指标,也是对设备进行检漏的依据。那么,如何去计算允许漏率值呢?,下面就几种典型情况进行讨论。
⑴ 动态真空系统的允许漏率
所谓动态真空系统,指工作时泵仍然对它进行抽气的系统,如真空冶炼炉、真空镀膜机、粒子加速器等。动态真空系统一般是利用抽速较大的泵来获得和维持真空的。因此,既使系统上存在较大的漏孔仍可以工作,对气密性的要求相应降低。但是这种系统一旦与泵隔开,真空度会急剧下降。这种系统的允许漏率可以用气体流量稳定关系来计算。在空载情况下,系统达到动态平衡时单位时间进入系统空间的气体量必然等于被泵抽走的气体量。此时的平均压力就是系统所能达到的极限压力p0。根据流量稳定关系有Q=Sp0式中Q=气体流量,包括漏气和放气两部分,即 Q = Q L+QFS=泵对系统的有效抽速。
在设计真空系统时,如果泵对系统的有效抽速S 确定,要求系统达到的极限压力p0
也已知,那么系统允许的气体流量[Q ]为[Q ]≤ Sp0
一般选取[Q ]的1/10的作为允许漏率[ QL]。那么,动态系统的允许漏率应为:
[QL ]=1/10[Q ] ≤1/10S.P0
【例如】一台镀膜机,对蒸发室的有效抽速S 为100L/s,要求达到的极限压力p0 为1×10-5Pa,那么该镀膜机的允许漏率
[QL]=1/10(S×p0)=1/10×100×1×10-5 =1×10- 4(Pa·L/s)=1×10- 7( Pa·m3/s)
⑵ 静态真空系统的允许漏率
所谓静态真空系统,即工作时已与泵隔离的真空系统,一般又称密闭容器或密闭器件,如显像管、电子管等。
静态系统的持点是:体积小,要求的极限压力较低,而且要求在与真空泵隔离后的相当长时间内,其真空度仍能满足工作要求,即寿命长。因此这种系统对漏气和放气的要求都是很高的。假设不考虑封闭系统中加有的消气剂的抽气作用,设器件封离时的压力为P0,保证器件正常工作所需的最高压力为Pt,器件的内腔容积为V,器件封离后保存和工作的时间为t,那么器件所允许的总气载[Q](漏气和放气)应为[Q ] ≤V×(P0-Pt)/t
取器件的允许漏率[ QL]为[Q ]的1/10,即[Q L] =1/10[Q ]≤(0.1×V×(P0-Pt))/t
【例如】某只电子管,其内腔容积为0.1L,封离时的压力p0 为1×10-4Pa,电子管正常工作的最高压力pt 为1×10-1Pa,要求器件保存和工作时间t 为10000h。那么,该电子管允许漏率应为
[Q L] ≤0.1×V×(P0-Pt)/t=(0.1×0.1×(1×10-2 -1×10-4))/10000×3600=2.8×10-10Pa.L/S
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